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" Vakuumbeschichtung : "
von Uwe Behringer, Helmut Gärtner, Reinar Grün, Gerhard Kienel, Michael Knepper, Erich Lugscheider, Hans Oechsner, Georg Wahl, Jürgen Waldorf, Gerhard K. Wolf ; herausgegeben von Gerhard Kienel, Klaus Röll.
| Document Type
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BL
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| Record Number
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750914
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| Doc. No
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b570873
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| Main Entry
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von Uwe Behringer, Helmut Gärtner, Reinar Grün, Gerhard Kienel, Michael Knepper, Erich Lugscheider, Hans Oechsner, Georg Wahl, Jürgen Waldorf, Gerhard K. Wolf ; herausgegeben von Gerhard Kienel, Klaus Röll.
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| Title & Author
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Vakuumbeschichtung : : Verfahren und Anlagen\ von Uwe Behringer, Helmut Gärtner, Reinar Grün, Gerhard Kienel, Michael Knepper, Erich Lugscheider, Hans Oechsner, Georg Wahl, Jürgen Waldorf, Gerhard K. Wolf ; herausgegeben von Gerhard Kienel, Klaus Röll.
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| Publication Statement
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Berlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg : Imprint : Springer, 1995
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| Series Statement
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VDI-Buch.
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| ISBN
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3642579051
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: 3642633986
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: 9783642579059
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: 9783642633980
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| Contents
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1 Vakuumbeschichtungsverfahren --; Übersicht --; 2 Bedeutung der Vakuumtechnik für die Beschichtungstechnik --; 2.1 Vorbemerkungen --; 2.2 Einfluß der Restgase auf die Schichtreinheit --; 2.3 Vakuumerzeugung --; 2.4 Vakuummessung --; 3 Aufdampfen im Hochvakuum --; 3.1 Vorbemerkungen --; 3.2 Physikalische Grundlagen --; 3.3 Anlagentechnik --; 4 Ionenplattieren --; 4.1 Einleitung --; 4.2 Ionenplattierungsprozeß --; 4.3 Anlagentechnik --; 4.4 Entwicklungsstand und Ausblick --; 5 Ionenzerstäubung von Festkörpern (Sputtering) --; 5.1 Einführung --; 5.2 Beschreibung des Zerstäubungsprozesses --; 5.3 Plasmagestützte Zerstäubungsverfahren --; 5.4 Anlagentechnik --; 6 Teilchenstrahlgestützte Verfahren --; 6.1 Einleitung --; 6.2 Teilchenstrahlquellen --; 6.3 Anwendung niederenergetischer Ionen- und Plasmastrahlen --; 6.4 Teilchenstrahlunterstützte Beschichtung (IBAD) --; 6.5 Ionenstrahlimplantation --; 6.6 Ionenstrahlmischen --; 7 Erzeugung von Mikrostrukturen an Oberflächen und dünnen Schichten --; 7.1 Plasmamethoden --; 7.2 Teilchenstrahlmethoden in ihrer Anwendung in der Lithographie --; 8 Plasmabehandlungsmethoden --; 8.1 Plasmadiffusionsverfahren --; 8.2 Pulsimplantation --; 9 Plasmaspritzen --; 9.1 Vorbemerkungen --; 9.2 Funktionsprinzip des Plasmaspritzens --; 9.3 Verfahrensvarianten --; 9.4 Anlagentechnik --; 10 Abscheidung aus der Gasphase --; 10.1 Physikalisch-chemische Grundlagen --; 10.2 Produktionssysteme für CVD-Prozesse --; 10.3 Modifizierung des Beschichtungsprozesses durch ein Plasma --; 10.4 Modifizierung der Gasphase durch Photo-CVD --; 10.5 Plasmapolymerisation --; Literatur --; Sachwortverzeichnis --; Autorenverzeichnis.
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| Abstract
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Schwerpunkte in Band 2 bilden das Aufdampfen im Hochvakuum, das Ionenplattieren, die Kathodenzerstäubung, teilchengestützte Verfahren, die Erzeugung von Mikrostrukturen, Plasmabehandlungsverfahren und die Abscheidung aus der Gasphase (CVD).
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| Subject
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Engineering.
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| Subject
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Structural control (Engineering)
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| Added Entry
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Erich Lugscheider
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Georg Wahl
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Gerhard K Wolf
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Gerhard Kienel
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Hans Oechsner
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Helmut Gärtner
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Jürgen Waldorf
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Klaus Röll
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Michael Knepper
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Reinar Grün
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Uwe Behringer
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